Untersuchung von Kobaltsilizid-Prozessen für die Anwendung an Basis-Kontakten integrierter Si-SiGe-Heterobipolartransistoren

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ISBN:	9783899591552
Personen:	Hohaus, Jörg Markus (Verfasser)
Zeitliche Einordnung:	2004
Umfang:	VIII, VII, 127 S
Format:	; 21 cm
Sachgruppe(n):	620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
Verlag:	Osnabrück : Der Andere Verl.
Schlagwörter:	Heterobipolartransistor ; Silicium ; Germanium ; Basis <Elektrotechnik> ; Kontaktieren ; Cobaltsilicide